ASTM F95-89 (2000) PDF
Name in English:
St ASTM F95-89 (2000)
Name in Russian:
Ст ASTM F95-89 (2000)
Description in English:
Standard Test Method for Thickness of Lightly Doped Silicon Epitaxial Layers on Heavily Doped Silicon Substrates Using an Infrared Dispersive Spectrophotometer (Withdrawn 2003). Original standard ASTM F95-89 (2000) in PDF full version. Additional info + preview on request
Description in Russian:
Стандартный метод определения толщины слаболегированных эпитаксиальных слоёв кремния на сильнолегированных кремниевых подложках инфракрасным дисперсионным спектрофотометром (отменён в 2003 году). Оригинальный стандарт ASTM F95-89 (2000) в PDF полная версия. Дополнительная инфо + превью по запросу
Document status:
Withdrawn
Format:
Electronic (PDF)
Page count:
8
Delivery time (for English version):
1 business day
Delivery time (for Russian version):
2 business days
SKU:
stastm18185
More technical details are being prepared for this document.